В Томском государственном университете начали производство двух химических веществ, необходимых для развития российской микроэлектроники. Разработкой занимается «Инжиниринговый химико-технологический центр». Об этом сообщает пресс-служба ТГУ. В ИХТЦ сейчас запустили разработку особо чистого бромистого водорода и тетракис(диметиламино)титана для российских предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектроники.
«Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основой для интегральных микросхем. Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями, но после введения санкций поставки были прекращены. За 2023-2024 год химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства», — рассказывает руководитель проекта, директор Инжинирингового центра высокочистых веществ и материалов микроэлектроники ТГУ Виктор Сачков. Первые партии бромистого водорода уже прошли промышленные испытания.
Тетракис(диметиламино)титан, более известный как TDMAT, необходим для создания сложных электронных устройств, полупроводников, изотопов, оптики, конструкционных покрытий и композитных материалов.
Фото: freepik
